SK 海力士计划 2026 年首次导入 ASML High NA EUV 光刻机

综合本站已有报道,在几大先进逻辑制程与存储半导体企业中,

英特尔:

已率先拿下了全球第一台商用 High NA EUV 光刻机 第二台 High NA 机台已在运至俄勒冈州研发晶圆厂的途中

台积搭建项目系统点我wcqh.cn电:

第一台 High NA EUV 光刻机有望于 2024 年内交付

三星电子:

第一台 High NA EUV 光刻机有望于 2024 年四季度至 2025 年一季度交付

以上就是SK 海力士计划 2026 年首次导入 ASML High NA EUV 光刻机的详细内容,更多请关注青狐资源网其它相关文章!

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